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垂直式磁性材料元件開發技術

技轉分類: 電腦技術  發表日期: 2009-06-23 12:57:11  最後修改: 2017-03-13 10:37:33

項目 內容
本校案號 97001
發明人 陳恭 教授
所屬院 理學院
所屬系所 物理學系所
授權權限 被授權方得利用本授權技術自行研發或添加之衍生技術或附加技術
授權範圍 中華民國
授權方式 採非專屬授權
技術類型 Know-How
技術來源 經濟部學界科專計劃 96-EC-17-A-04-S1-026
技術內容摘要 (1)以GdFeCo、TbFeCo、CoPt、FePd等垂直異相性為主之多層膜製作磁穿隧結元件,降低能量耗損,提 高記憶元件。
(2)利用ICR-RIE蝕刻技術,元件尺寸已達50nm,元件間距亦可有效降低達500nm,密度之需求超過2.5Gbit/in2。
(3)建立奈米級讀寫測試平台的架設及讀寫關鍵技術掌握。
授權金及衍生利益金 授權金:新台幣捌拾萬元整。
廠商資格/條件 (1)產業類別:電子技術
(2)應具備之專門技術:製磨、磁性測量
(3)應有之機具設備: 製磨、磁性測量系統
(4)應有之研究或技術人員人數: 10
發明人聯繫資料 (1)發明人:陳恭 教授
(2)單 位:國立中正大學 台灣自旋中心中心
(3)聯絡人:陳恭 教授
(4)電 話:(05)2720411轉66326
(5)電子郵件: