專利國別

  中華民國   

發表日期

2013-10-22 13:22:12

專利讓與

一、依據科技部中華民國108年01月15日科部產字第1080004368號函辦理。

二、公告日：2018年04月11日（星期四）。

三、公告讓與期間：自公告日起3個月。

四、敬請有興趣辦理受讓之廠商，或對受讓申請程序有任何疑問者，聯繫研發處技術推廣中心洽談，電話：05-2720411轉16501、16504。

本校案號

P96007

專利名稱

材料表面上產生可儲存資料內容之奈米圖案之方法

發明人

鄭友仁、譚仲明

所屬院

工學院

提案單位

機械工程學系暨研究所

類型

發明

專利權人

國立中正大學

申請號

097116328

申請日期

2008-05-02

公開號

200946443

公開日期

2009-11-16

證書號

I405711

核准日期

2013-08-21

國際分類號

B81C-001/00(2006.01)

專利權期間

2013.08.21~2028.05.01

專利摘要

本發明係揭露一種於材料表面上產生可儲存資料內容之奈米圖案之方法，其步驟至少包含覆上一可控制晶格方向之薄膜，提供一奈米壓痕動作，係作用於可控制晶格方向之薄膜上，以及於可控制晶格方向之薄膜上一特定位置產生一壓痕，致使於一特定方向上產生至少一突點，其突點可為一圖案，可用於資料儲存等應用。

圖示