專利國別

  中華民國   

發表日期

2014-10-01 09:42:22

本校案號

P100042

專利名稱

具有垂直異向性之合成反鐵磁結構及其製法

發明人

陳恭、薛丞宏

所屬院

工學院

提案單位

自動化研究中心

類型

發明

專利權人

國立中正大學

申請號

100137841

申請日期

2011-10-19

公開號

201318010

公開日期

2013-05-01

證書號

I450284

核准日期

2014-08-21

國際分類號

H01F-010/08(2006.01)；H01F-041/32(2006.01)；G11C-011/14(2006.01)

專利權期間

2014.08.21~2031.10.18

專利摘要

一種具有垂直異向性之合成反鐵磁結構及其製法，該具有垂直異向性之合成反鐵磁結構主要包括：基材及在基材上依序堆疊之緩衝層、第一氧化層、第一鐵磁層、非磁性金屬層、第二鐵磁層及第二氧化層，其中，第一和第二鐵磁層各自具有預定厚度，而夾置於第一及第二鐵磁層之間的非磁性金屬層具有另一預定厚度。此結構經退火處理後，可實現第一與第二鐵磁層之間呈現垂直式反平行耦合的特性。

圖示