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【專利公告讓與】P101004-釔摻雜氧化銦透明導電薄膜電晶體及其製備方法

讓與-上隔線

專利國別

  中華民國   

發表日期

2014-07-08 11:26:21

專利讓與

一、依據科技部中華民國108年01月15日科部產字第1080004368號函辦理。

二、本案經第296次智慧財產權審議委員會辦理。

三、公告日:2020年01月17日(星期五)。

四、公告讓與期間:自公告日起3個月。

五、敬請有興趣辦理受讓之廠商,或對受讓申請程序有任何疑問者,聯繫研發處技術推廣中心洽談,電話:05-2720411轉16501、16504。

本校案號

P101004

專利名稱

釔摻雜氧化銦透明導電薄膜電晶體及其製備方法

發明人

丁初稷、蔡孟錕、范馨云

所屬院

工學院

提案單位

光機電整合工程研究所

類型

發明

專利權人

國立中正大學

申請號

101101912

申請日期

2012-01-18

公開號

201332114

公開日期

2013-08-01

證書號

I437710

核准日期

2014-05-11

國際分類號

H01L-029/786(2006.01);B32B-009/04(2006.01)

專利權期間

2014.05.11~2032.05.10

專利摘要

本發明採用溶膠凝膠法製備釔摻雜氧化銦透明導電薄膜,藉由改變摻雜釔的濃度,作為主動層應用於薄膜電晶體中,主要是藉由釔與氧的電負度大於銦與氧的電負度,增加釔對氧的束縛能力,減少氧空缺產生,抑制載子濃度,適合應用於薄膜電晶體中,可以製造成良好的電晶體主動層,且具有理想的電晶體特性,已經可以適用於一般的光電元件。

圖示

101004-1                101004-2

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