專利國別

  中華民國   

發表日期

2022-06-30 09:54:11

專利讓與

一、依據科技部中華民國111年01月10日科部產字第1110002329號函辦理。

二、依據本校第346次智慧財產權審議委員會辦理。

三、公告日：2022年06月30日(星期四)。

四、公告讓與期間：自公告日起3個月。

五、敬請有興趣辦理受讓之廠商，或對受讓申請程序有任何疑問者，聯繫研發處技術推廣中心洽談，電話：05-2720411轉16501、16505。

本校案號

P93014

專利名稱

以微接觸印刷技術為主之全彩有機電激發光二極體陣列製程之方法

發明人

鄭榮偉、何正榮、洪緯璿、朱家德、巫翔裘、王唯本、林煒淳

所屬院

工學院

提案單位

機械工程學系暨研究所

類型

發明

專利權人

國立中正大學

申請號

095112242

申請日期

2006-04-06

公開號

200739982

公開日期

2007-10-16

證書號

I342077

核准日期

2011-05-11

國際分類號

H01L-051/40(2006.01)

專利權期間

2011.05.11~2026.04.05

專利摘要

本發明是有關一種以微接觸印刷技術為主之全彩有機電激發光二極體陣列製程之方法,其主要係揭露一直接且有效的方法來製造全彩有機發光二極體陣列,其關鍵製程在於一種新發展出來的可以控制厚度之建基於物理吸附的微接觸印刷技術,其所包含的電激發光材質可以是低分子量或高分子量,只要能適用於溶液製程即可。

圖示