專利國別

  中華民國   

發表日期

2009-06-24 10:00:50

本校案號

P92013

專利名稱

形成線性圖案的方法

發明人

鄭榮偉、何正榮

所屬院

工學院

提案單位

機械工程學系暨研究所

類型

發明

專利權人

國立中正大學

申請號

094101836

申請日期

2005-01-21

公開號

200627072

公開日期

2006-08-01

證書號

I265379

核准日期

2006-11-01

國際分類號

G03F-007/16(2006.01)

專利權期間

2006.11.01~2025.01.20

專利摘要

本發明揭露一種形成線性圖案的方法，名為「線性方向旋轉塗佈技術」。其係在一基板上先形成數阻隔堤，以定義出數溝槽；將基板垂直豎立於一旋轉盤之外緣；再將材料滴於溝槽一端，並轉動旋轉盤，以利用離心力將材料均勻塗佈於溝槽內之基板上，進而形成一線性圖案。且若使用二種以上同之材料，即可選擇性的在特定之不同溝槽塗佈形成不同材料的線性圖案，且其厚度可與習知之旋轉塗佈法所形成的厚度相當。

圖示