【專利核准公告】P95012-低應力拋光裝置(已終止維護)

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專利國別 |
中華民國 |
發表日期 |
2012-09-05 16:38:13 |
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本校案號 |
P95012 |
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專利名稱 |
低應力拋光裝置 |
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發明人 |
蔡孟勳、鄭友仁 |
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所屬院 |
工學院 |
提案單位 |
機械工程學系暨研究所 |
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類型 |
發明 |
專利權人 |
國立中正大學 |
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申請號 |
096117658 |
申請日期 |
2007-05-17 |
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公開號 |
200846137 |
公開日期 |
2008-12-01 |
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證書號 |
I322745 |
核准日期 |
2010-04-01 |
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國際分類號 |
B24B-037/04(2006.01);B24B-001/04(2006.01);H01L-021/304(2006.01);B24B-037/04(2012.01) |
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專利權期間 |
2010.04.01~2027.05.16 |
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專利摘要 |
一種低應力拋光裝置,包含有:一基座;複數驅動器,彼此相格預定距離設於該基座,各該驅動器具有一驅動桿以及一緩衝彈簧,該緩衝彈簧連結於該驅動桿,用以對該驅動桿提供適當的預推力,各該驅動桿的末端具有一緩衝墊;至少一驅動電路,電性連結於該等驅動器,對該等驅動器提供驅動控制;一作用板,設於該等緩衝墊;以及一研磨墊,設於該作用板。藉此,本發明所產生的振動模態可對晶圓的表面產生動態的壓力,藉以破壞晶圓表面的生成物,可用於低介電常數整合銅金屬製程的拋光。 |
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圖示 |
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