專利國別

  中華民國   

發表日期

2023-08-07 10:50:44

本校案號

P108023TW

專利名稱

電磁波反射結構及其製造方法

發明人

張盛富、張嘉展、林士程、陳為暘、林育丞

所屬院

工學院

提案單位

電信研究中心

類型

發明

專利權人

國立中正大學

申請號

109125161

申請日期

2020.07.24

公開號

202205743

公開日期

2022.02.01

證書號

發明第I808333號

核准日期

2023.04.11

國際分類號

H01Q 15/14(2006.01); H01Q 19/10(2006.01)

專利權期間

2023.07.11~2040.07.23

專利摘要

一種電磁波反射結構的製造方法包含以下步驟：預設一電磁波的一操作頻率、一反射波指向角度、一入射波指向角度，及一入射距離；根據該操作頻率、該反射波指向角度、該入射波指向角度及該入射距離獲得一電磁波反射結構的一電磁波反射結構相位分佈；及根據該電磁波反射結構相位分佈對應一反射單元在該操作頻率的一反射單元相位曲線，以在一基板上設置多個所述反射單元。

圖示