專利國別

  美國   

發表日期

2014-08-14 10:08:31

專利讓與

一、依據科技部中華民國108年01月15日科部產字第1080004368號函辦理。

二、本案經第305次智慧財產權審議委員會辦理。

二、公告日：2020年06月22日（星期一）。

三、公告讓與期間：自公告日起3個月。

四、敬請有興趣辦理受讓之廠商，或對受讓申請程序有任何疑問者，聯繫研發處技術推廣中心洽談，電話：05-2720411轉16501、16504。

本校案號

P96007A

專利名稱

材料表面上產生可儲存資料內容之奈米圖案之方法「METHOD FOR GENERATING NANO PATTERNS UPON MATERIAL SURFACES」

發明人

鄭友仁、譚仲明

所屬院

工學院

提案單位

機械工程學系暨研究所

類型

發明

專利權人

國立中正大學

申請號

12/431,213

申請日期

2009-04-28

公開號

US 2009-0272172 A1

公開日期

2009-11-05

證書號

US 8,434,221 B2

核准日期

2013-05-07

國際分類號

H01R-009/00(2006.01)；H05K-003/00(2006.01)

專利權期間

2009.04.28~2029.04.28(延長683天至2031.03.12)

專利摘要

The present invention discloses a method for generating nano patterns upon material surfaces. The method for generating nano patterns upon material surfaces comprises the following steps: providing a thin film capable of controlling lattice directions, applying a nanoindentation action to the thin film to generate an indentation at a specific position on the thin film. At least one hillock is then generated in a specific direction to generate a pattern and to be applied to a data storage system.

圖示