專利國別

  中華民國   

發表日期

2009-10-26 09:39:43

本校案號

P98021

專利名稱

微結構模具形成方法、微結構壓印方法及擴散片

發明人

巫晟逸、江定軒、許佳振、鄭翰昌

所屬院

工學院

提案單位

光機電整合工程研究所

類型

發明

專利權人

國立中正大學

申請號

094141612

申請日期

2005-11-25

公開號

200720786

公開日期

2007-06-01

證書號

I315803

核准日期

2009-10-11

國際分類號

G02F-001/13357(2006.01)

專利權期間

2009.10.11~2025.11.24

專利摘要

一種微結構壓印方法，包含步驟有提供一高分子溶液基底；於溶液基底加入一溶劑；使水氣通過溶液基底之表面，以使水氣與揮發的溶劑結合成液滴，液滴係沉入溶液基底；使沉入溶液基底的液滴揮發以形成一微孔洞結構；提供一塑形材料層；藉由微孔洞結構壓印塑形材料層以形成一微結構；藉由所形成的微結構對一剛性材料進行翻模程序以形成模具；以及藉由所形成的模具壓印出微粒結構。於形成微孔洞結構時，可藉由控制溫度及溼度來控制孔洞大小，從而控制微粒大小，此種控制可局部進行，因此可達到微粒大小之適當分佈。

圖示