專利國別

  中華民國   

發表日期

2013-10-14 16:03:21

本校案號

P93014

專利名稱

以微接觸印刷技術為主之全彩有機電激發光二極體陣列製程之方法

發明人

鄭榮偉、何正榮、洪緯璿、朱家德、巫翔裘、王唯本、林煒淳

所屬院

工學院

提案單位

機械工程學系暨研究所

類型

發明

專利權人

國立中正大學

申請號

095112242

申請日期

2006-04-06

公開號

200739982

公開日期

2007-10-16

證書號

I342077

核准日期

2011-05-11

國際分類號

H01L-051/40(2006.01)

專利權期間

2011.05.11~2026.04.05

專利摘要

本發明是有關一種以微接觸印刷技術為主之全彩有機電激發光二極體陣列製程之方法,其主要係揭露一直接且有效的方法來製造全彩有機發光二極體陣列,其關鍵製程在於一種新發展出來的可以控制厚度之建基於物理吸附的微接觸印刷技術,其所包含的電激發光材質可以是低分子量或高分子量,只要能適用於溶液製程即可。

圖示