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【專利核准公告】P104002-電腦斷層掃瞄影像之金屬偵測及偽影消除方法

專利核准-上隔線

專利國別

  中華民國   

發表日期

2019-08-15 16:37:46

本校案號

P104002

專利名稱

電腦斷層掃瞄影像之金屬偵測及偽影消除方法

發明人

姚宏宗、 林彥昆、 林宗翰

所屬院

工學院

提案單位

精密模具研究中心

類型

發明

專利權人

國立中正大學

申請號

104144050

申請日期

2015-12-28

公開號

201722358

公開日期

2017-07-01

證書號

I593392

核准日期

2017-08-01

國際分類號

A61B-006/03(2006.01);G06T-005/50(2006.01)

專利權期間

2017.08.01~2035.12.27

專利摘要

一種電腦斷層掃瞄影像之金屬偵測及偽影消除方法,主要係藉由一電腦來執行,該方法包含有下列步驟:A) 取得電腦斷層掃瞄影像;B) 金屬偵測;C) 雷登轉換取得投影數據;D) 線性插補及權重性插補;E) 反投影成像;F) 建立預處理影像;G) 建立融合影像;以及H)對融合影像回填金屬部分。上述步驟主要係先進行金屬偵測,再利用雷登轉換及反投影成像的關係來將影像轉為投影數據或將投影數據轉為影像,並利用一閥值將影像二值化以分離出金屬的部分,而將影像與金屬部分加以分離處理,之後再進行影像的融合,並回填金屬部分後,即可獲得偵測金屬以及偽影消除的效果。

圖示

104002

專利核准-下隔線

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