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【專利核准公告】P111025TW-透明玻璃薄膜鍍膜厚度量測方法

專利核准-上格線

專利國別

   中華民國   

發表日期

2023-12-29 14:50:45

本校案號

P111025TW

專利名稱

透明玻璃薄膜鍍膜厚度量測方法

發明人

王祥辰、曹育銘、陳榆洋、劉祐霖、黃景益

所屬院

工學院

提案單位

先進工具機研究中心

類型

發明

專利權人

國立中正大學

申請號

111127388

申請日期

2022.07.21

公開號

202405370

公開日期

2024.02.01

證書號

發明第I827151號

核准日期

2023.12.21

國際分類號

G01B 11/02(2006.01); G01J 3/28(2006.01)

專利權期間

2023.12.21~2042.07.20

專利摘要

一種透明玻璃薄膜鍍膜厚度量測方法,適用於量測一透明玻璃薄膜的鍍膜厚度,由一電腦裝置執行,該電腦裝置儲存有一相關於一相機拍攝該透明玻璃薄膜的薄膜影像、一由一表面輪廓儀量測該透明玻璃薄膜所獲得的薄膜表面資料,及多個分別對應多個不同的鍍膜厚度的參考參數組,每一參考參數組包括多個參考參數,該方法包含以下步驟:(A)根據一頻譜轉換矩陣及一相關於一相機拍攝該透明玻璃薄膜的薄膜影像,獲得多個分別對應該薄膜影像的多個像素的薄膜光譜資訊;(B) 將該薄膜表面資料及該等薄膜光譜資訊進行回歸分析,以獲得多個參數;及(C)根據該等該等參數及該等參考參數組獲得該透明玻璃薄膜的鍍膜厚度。

圖示

專利圖示

專利核准-下格線

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