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【專利核准公告】P110023US-光催化性砂漿的製法「METHOD FOR PRODUCING PHOTOCATALYTIC MORTAR」

專利核准-上隔線

專利國別

    美國   

發表日期

2025-04-28

本校案號

P110023US

專利名稱

光催化性砂漿的製法「METHOD FOR PRODUCING PHOTOCATALYTIC MORTAR」

發明人

陳建易、黃奕勛、林品芸、葉偉凡

所屬院

理學院

提案單位

地環系

類型

發明

專利權人

國立中正大學

申請號

17/707,211

申請日期

2022.03.29

公告號

US20230399262A9

公告日期

2023.12.14

證書號

US 12,264,102 B2

核准日期

2025.04.01

國際分類號

C04B 22/06(2006.01); B01J 23/06(2006.01); B01J 35/39(2024.01); B01J 37/36(2006.01); C04B 14/06(2006.01); C04B 24/14(2006.01); C04B 28/24(2006.01); C04B 103/00(2006.01); C04B 111/00(2006.01)

專利權期間

2022.03.29~2042.03.29(延長549天至2043.09.29)

專利摘要

A method for producing photocatalytic mortar includes providing a mortar-producing material including a fine aggregate and cement, a reactant mixture including a zinc source and urea, and a microorganism-containing mixture including water and a urease-producing microorganism, subjecting the microorganism-containing mixture and the reactant mixture to microbial induced precipitation in the mortar-producing material, subjecting zinc carbonate crystal-containing mortar produced to curing for the same to undergo hydration, and subjecting cured mortar to hydrothermal synthesis, so that zinc carbonate crystals therein are converted to nano zinc oxide crystals.

圖示

P110023US-光催化性砂漿的製法「METHOD FOR PRODUCING PHOTOCATALYTIC MORTAR」

專利核准-下隔線

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