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【可授權專利公告】P112023TW-單影像除雨方法及單影像除雨系統

可授權專利-上隔線

專利國別

   中華民國   

發表日期

2025-05-09

本校案號

P112023TW

 

專利名稱

單影像除雨方法及單影像除雨系統

 

發明人

許巍嚴、林賢文

 

所屬院

管理學院

提案單位

高齡跨領域創新研究中心

 

類型

發明

專利權人

國立中正大學

 

申請號

113112685

申請日期

2024.04.03

 

公開號

TWI881783B

公開日期

2025.04.21

 

證書號

發明第I881783號

核准日期

2025.04.21

 

國際分類號

G06T 5/00(2024.01);G06N 3/08(2023.01);G06V 10/30(2022.01);G06V 20/56(2022.01)

 

專利權期間

2025.04.21~2044.04.02

 

專利摘要

本揭示內容提供一種單影像除雨方法,其包含以下步驟:根據除雨網路模型將有雨影像轉換為除雨影像,並根據除雨影像產生第一損失函數;根據雨痕學習網路模型將有雨影像轉換為雨痕影像;根據融合網路模型融合除雨影像與雨痕影像而產生重建後有雨影像,並根據重建後有雨影像產生第二損失函數;對第一損失函數與第二損失函數進行加權運算程序而產生全損失函數,並利用全損失函數更新除雨網路模型;以及根據更新後的除雨網路模型將有雨影像轉換為最佳除雨影像。藉此,可以有效去除單張影像的雨痕且完整重建背景結構。

 

圖示

P112023-TW

可授權專利-下隔線

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