專利國別

   中華民國   

發表日期

2026-06-24

專利讓與

一、依據國科會中華民國113年01月03日科部產字第1130001031號函辦理。

二、依據本校第424次智慧財產權審議委員會辦理。

三、公告日：115年06月24日（星期三）

四、公告讓與期間：自公告日起3個月。

五、敬請有興趣辦理受讓之廠商，或對受讓申請程序有任何疑問者，聯繫研發處技術推廣中心洽談，電話：05-2720411轉16501、16505。

本校案號

P107023

專利名稱

影像缺陷條紋之移除方法及其系統

發明人

許巍嚴、鍾季叡、林文彥

所屬院

管理學院

提案單位

製商整合研究中心

類型

發明

專利權人

國立中正大學

申請號

108118440

申請日期

2019-05-28

公開號

202044195

公開日期

2020-12-01

證書號

I719490

核准日期

2021-02-21

國際分類號

G06T-005/00(2006.01)

專利權期間

2021.02.21~2039.05.27

專利摘要

本發明提供一種影像缺陷條紋之移除方法，其用以移除一影像之一線格紋，影像缺陷條紋之移除方法包含一傅立葉轉換步驟、一類高斯遮罩步驟及一傅立葉逆轉換步驟，其中傅立葉轉換步驟係提供一傅立葉轉換處理影像而產生一頻率域圖。類高斯遮罩步驟係提供一類高斯遮罩模型處理頻率域圖而產生一遮罩頻率域圖。傅立葉逆轉換步驟係提供一傅立葉逆轉換處理遮罩頻率域圖而產生一線格紋消除影像。藉此，利用特殊的類高斯遮罩模型於頻域中，不但可有效去除線格紋以降低自動化檢測誤判，還有區間與區間之間較為平滑以及運算複雜度較低之效。

圖示